AXIUS低圧用反転型ディスク

型  式:
反転型
種  類:

スコア式
特  徴:
液体でも使用できる・運転圧力比が最高の
95%極低圧での設定可能
繰り返し圧のある運転に強い
主な材質:
316SS/316LSS、ハステロイC
ニックネーム:
至高の魅力~アキシアスと読みます~(ウラ話はコチラ)

AXIUS 型ラプチャーディスクとは

破裂後のAXIUS型ラプチャーディスク

ディスク表面拡大

AXIUS(アキシアス)はファイク社が特許を取得している反転型のラプチャ−ディスクです。AXIUSは最大可能運転圧力を設定圧力の下限の95%まで可能にした最先端の技術が凝縮されている夢の破裂板です。AXIUSはラプチャ−ディスクの中でG2テクノロジーとも呼ばれており、圧力を設定する際に機械加工を一切施しません。その為、従来のスコアラインのような使用する毎に疲労していく箇所がプロセス側に存在しないのでサイクル運転やパルスに強く、最大で10万回を超えるサイクルにも使用可能です。

AXIUS型ラプチャ−ディスクの特長

  • 許容公差の下限に対して95%までの圧力で運転可能です
  • 金属単板構造で低圧破裂圧を実現
  • 低圧域での破裂公差が狭く、より設定圧力に近い値で破裂します
  • 破片の飛散がありません
  • バキュームサポート無しでフルバキュームまで使用できます
  • 液体、ガス、べ−パーはもちろんどんな流体にも使用できます
  • (重合のあるプロセスには不可)
  • 製造範囲がなく標準でゼロレンジになります
  • サイクル運転やパルスに強い
  • 標準材質はステンレス、ハステロイCで1〜12インチまでの口径にて製作可能です
  • 設定可能温度はステンレス、ハステロイC共に482℃までとなります
  • 1½インチを除いてファイク製SRL型ホルダーと互換性があります
  • 三次元タグ&位置決めタブ付き
  • O-リングを使用することでリーク量を1X10-8Acc/sec(1X10-9Pam3/sec)
    以下にてシールできます(ヘリウムリークテストによる)

O-リング  リークの許されないプロセスに最適

AXIUSのホルダーは、メタルタッチによる締め付け圧力でラプチャーディスクをシールします。シール性についてはヘリウムリークテストにて1×10-3Acc/sec(1×10-4Pam3/sec)以下のリーク量となります。また、リークの許されないプロセスにAXIUSラプチャーディスクを使用する場合は、オプションとしてO-リングホルダーを用意しています。O-リングホルダーを使用した場合のシール性はヘリウムリークテストにて1×10-8Acc/sec(1×10-9Pam3/sec)以下のリーク量となります。なお、O-リングはバイトン製とテフロン包みバイトン製があります。
O-リングの最低使用温度は-26.1℃、最高使用温度は232℃となります。

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